主要用于LED襯底材料、半導(dǎo)體材料及外延材料的等離子刻蝕設(shè)備中，對設(shè)備刻蝕腔體的很好的防護(hù)作用。
材質(zhì)為高純氧化鋁陶瓷 、氧化鋯陶瓷及碳化硅陶瓷，具有硬度高、耐磨損、精度保持性好、很好的耐等離子體轟擊等特性。高純高性能工程陶瓷材料能夠很好的解決新一代刻蝕技術(shù)中等離子體腐蝕、微粒產(chǎn)生、金屬污染和氧氣分解等問題。純度≥99.8%，具有優(yōu)秀的耐等離子刻蝕能力，可非標(biāo)定制。
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