主要用于芯片前道制程中的光刻、量程、鍵合、退火等核心關(guān)鍵工序。
由高純碳化硅粉燒結(jié)而成，具有楊氏模量高、組織致密均勻、熱膨脹系數(shù)小、壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)，特別適用于吸附半導(dǎo)體片要求極高的平面度和極低的顆粒數(shù)量、金屬離子污染的先進(jìn)檢測(cè)制程。
12英寸全局平整度≤0.3um，局部平整度≤0.1um；表面可涂覆高純涂層；具有豐富的卡盤設(shè)計(jì)能力，能夠應(yīng)對(duì)翹曲0.8mm的晶圓；可滿足先進(jìn)制程潔凈度要求。
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